簡(jiǎn)介：

GCIB-10S 離子源系統是一種高性能10千伏氣體團簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。

GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實(shí)時(shí)集群大小測量和內置樣本電流成像系統，以幫助您充分利用實(shí)驗。 

GCIB-10S 離子源系統具有完整的泵送系統和單獨軟件，是一種栓接式升級，將集束束濺射的力量引入現有的真空儀器，如XPS、SEM和SIMS。

主要參數：

特點(diǎn):  

◇  10kV氬團簇離子源，可選擇Ar1至>Ar3000的團簇；

◇  實(shí)時(shí)集群測量和調整；

◇  采樣電流成像；

◇  光斑尺寸大，掃描范圍寬，可均勻去除材料；

◇  易于安裝在許多高真空儀器上；

◇  單獨軟件和基于web套接字的API，用于與第三方軟件集成

應用技術(shù)： 

GCIB 10S可去除不定碳和其他表面污染，而不會(huì )損壞基材， 同時(shí)還可對有機物和聚合物等軟材料進(jìn)行無(wú)損傷深度剖析。

右圖顯示了分別使用Ar1和Ar2000蝕刻原始PET表面前后的C 1s 峰值。數據清楚地顯示了單原子Ar1束（紅色）造成的化學(xué)損傷，而光譜在暴露于A(yíng)r2000束（藍色）后幾乎保持不變